術後再生修護乳

護膚品

保濕 - 修復 - 舒緩

再生修護霜*的其專門調製配方用於舒緩、滋潤和修復*經過淺層皮膚病手術或紋身後被削弱的肌膚**。

  • 得到舒緩
  • 修復
  • 保濕
  • 高肌膚耐受性

首款活性益生修復成分。

舒緩、補濕、修復。

管裝

可用於 成年人 - 接受抗癌療程或療程後的人

適合年齡 16歲以上

肌膚類型 敏感肌 - 皮膚變弱 - 受刺激肌膚

需要 皮膚修復 - 抗刺激

產自

塗抹
塗抹

幫助修復因皮膚科手術或紋身而變得脆弱的皮膚

Playing YouTube videos requires the use of cookies in order to offer you targeted advertising based on your browsing For more information, please visit YouTube's « cookie » policy.

You have rejected Youtube's cookies and therefore you cannot view the video.

You can change your choices by clicking on « Cookie Settings » and accept Youtube's cookies to enable the video.

You can change this setting and withdraw your consent at any time.

使用頻率

每天 2 次

使用貼士

每天兩次塗抹在因皮膚科手術或紋身而變得脆弱的皮膚上。

專家建議

手術後:
從第一天開始,每天使用兩次消毒潔淨啫喱和修護潤膚霜,直到皮膚外觀得到改善。

紋身後:
在最初的24小時內讓紋身處於閉合狀態。
24小時後:用消毒潔淨啫喱進行清潔。
72小時後:每天使用兩次修護潤膚霜。

臨床結果
臨床結果

更快地舒緩和修復您的肌膚。

48小時48小時內完成修復¹
-60%從第一次使用開始就有燒灼感¹。
24小時保濕²

¹在皮膚科控制測試下,62名試用者(煥膚或激光後)進行肌膚耐受性和療效研究,每天塗抹2次,持續21天。
*水動補濕指數(HI),由21名試用者進行測試,單次塗抹。

顯示資料來源 隱藏資料來源
成分 成分

為脆弱皮膚量身定做的超完整配方

AVENE THERMAL SPRING WATER (AVENE AQUA). CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE. GLYCERIN. PENTAERYTHRITYL TETRACAPRYLATE/TETRACAPRATE. TRIETHYLHEXANOIN. SQUALANE. CETEARYL ALCOHOL. BEHENYL ALCOHOL. NIACINAMIDE. C20-22 ALKYL PHOSPHATE. C20-22 ALCOHOLS. BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER (BUTYROSPERMUM PARKII BUTTER). AQUAPHILUS DOLOMIAE FERMENT FILTRATE. ARGININE. CAPRYLYL GLYCOL. CETEARYL GLUCOSIDE. COPPER SULFATE. SODIUM BENZOATE. SODIUM HYALURONATE. SODIUM HYDROXIDE. TOCOPHERYL ACETATE. TROMETHAMINE. XANTHAN GUM. ZINC SULFATE

建議消費者在購買前系統檢查產品成分。

[C+-細胞修復因子]

[C-細胞修復因子]

從Avène抗敏活泉水中提取的專利後生物活性成分。 促進皮膚修復。

銅 / 鋅

銅-/-鋅

抗菌複合物,抑制細菌繁殖的風險。

常見問題

有任何關切或問題嗎?我們的專家在這裡為您服務。

我們建議您繼續使用再生修護潤膚霜,直到您不再感到任何不適或發紅。然後您就可以回到您平常的護膚程序。

以下是我們為您推薦的紋身後的處理方法。
在最初的24小時內讓紋身處於閉合狀態。
24小時後:用再生消毒潔淨啫喱進行清潔。
72小時後:每天使用兩次再生修護潤膚霜。

建議每天使用兩次再生修護潤膚霜。我們的舒緩建議:可以考慮做一些Avène抗敏活泉水的敷貼。
- 折疊數張紙巾。
- 將紙巾浸泡在Avène抗敏活泉水中。
- 敷在受影響的位置,然後再次噴上活泉水。
- 10分鐘內,重複噴上2至3次。

全心為您

全心為您

我們把一些您可能感興趣的東西放在一起。祝您閱讀愉快!

  love salmon-2x

AVÈNE抗敏活泉水

這是我們關注的核心問題。我們每天都在努力,以更好地保護明天。

探索發現

Back to top