清除你的暗瘡是我們非常重視的一項任務。而Cleanance暗瘡系列繼續證明了我們30年來對所有暗瘡皮膚類型的承諾。
淨化、糾正、支持或美化青少年或成年女性的油性或痤瘡性皮膚：一個完整的系列，保證有效性和高耐受性，無論是單獨使用還是與處方治療結合使用。不要放棄，Cleanance暗瘡系列是你在這場鬥爭中最好的盟友。
皮膚科醫生推薦的護膚和衛生系列，有效而持久地減少多餘的油脂、斑點和黑頭。
青少年有很多不同的煩惱 Eau Thermale Avène為他們分擔皮膚上的問題
Cleanance暗瘡系列提供專業的解決方案，7天後經臨床驗證有效1，以對抗光澤、瑕疵和殘留的痕跡。
有了暗瘡系列，您就可以重新控制您的皮膚了!
Cleanance Comedomed全效淨膚祛瑕精華是一種對抗痘痘和黑頭的好方法。與其他產品不同，它不僅能減少瑕疵，還能從根本上限制瑕疵的再次出現。結果呢？痘痘復發
的惡性循環被徹底打破了!
處方的暗瘡治療方案²。
痘痘復發的機會
兩個月後的痘痘問題⁴
一種新的植物基分解活性成分。珂賽特（COMEDOCLASTIN）TM
由Pierre Fabre實驗室獨家開發的具有專利*的創新產品 ，Comedoclastin™來自奶薊草種子。
這種獨特的活性成分在治療輕度至中度痤瘡方面提供獨特的反應。它通過在瑕疵形成過程中的關鍵階段發揮作用，從根源上減少粉刺並限制其重新出現。通過防止皮脂腺毛囊變成微型黑頭，它有助於保持丘疹。
青少年，年輕人，青少年的父母：當涉及到痤瘡時，你並不孤單。無論你的年齡多大，痘痘都不應該成為擔憂的根源。與以往任何時候相比，Avène皮膚科實驗室都在為你服務。
Soothing by nature "是我們的品牌標誌，也是指導我們實驗室進行所有研究和不斷追求創新的口號。因此，我們已經能夠發展我們的產品系列，成為唯一針對油性皮膚的醫學美容護膚產品，以完整和具體的方式應對所有階段的痤瘡。
由於我們充分意識到它們可能產生的心理影響，我們也在這裡治癒那些肉眼看不見的疤痕。
為了幫助你更安心地生活，這裡有一些適合所有年齡段的日常提示，它們可以改變一切!
一旦你找到適合你的皮膚的產品，最重要的是每天應用它們。一致性是有效性的同義詞! 每天在清潔皮膚後塗抹你的護理。 有效性也意味著簡單性! 不要使用太多的產品。護膚程序盡量簡單
效果會更好。
你可以在有斑的時候化妝，只要你使用非粉刺性的化妝品，並且每天晚上都要卸妝! 一個小小的改造有幾個好處：首先，你有機會掩蓋你的不完美，讓你更安心。第二，當你化妝的時候，你就更不可能挑剔你的斑點了!
這不是什麼秘密。為了讓自己感覺更好，重要的是獲得心靈的平靜。在這種情況下，運動可以成為你最好的朋友! 鍛煉可以改善你的健康，幫助你睡得更好，更容易排除毒素，並減少壓力。所有這些好東西都有助於改善皮膚品質!
有時會，特別是因荷爾蒙分泌旺盛出現的青少年暗瘡。但是，暗瘡也有可能持續至成年。在這種情況下，女士是主要受影響人士。荷爾蒙變化（如懷孕）是暗瘡爆發的誘因，還有紫外線輻射、灰塵和空氣污染——所有這些因素都會影響暗瘡。最重要是迅速作出反應，不要猶豫，向專業醫護人士諮詢，以獲取寶貴建議。
在暗瘡疤痕方面，預防勝於治療：擺脫暗瘡疤痕是一個漫長而昂貴的過程，涉及激光治療、化學煥膚、微晶換膚……因此，最佳做法是採用專屬和有效的抗暗瘡程序。痘痘越少，疤痕就越少！
幸運的是，有一些雙重功效的護膚品可以減少粉刺，減弱深色印痕的色素沉澱，並減少輕度疤痕，如全效淨膚系列女士舒緩晚霜。
戴口罩會使肌膚窒息，可能會使肌膚更容易出現暗瘡。
我們的建議：肌膚衛生必不可少，早晚都要進行清潔。加強肌膚的補濕，但要使用適合油性或暗瘡肌膚的產品，在保濕的同時減少瑕疵並抑制暗瘡重新出現。而且每天都要確保戴上乾淨的口罩，因為口罩可能吸滿化妝品和乳霜，使口罩更易引起痕癢和導致粉刺。
1在皮膚學控制測試下，對51名試用者進行肌膚耐受性和療效研究，她們使用全效淨膚祛瑕精華，每天塗抹兩次，持續56天。2Comedomed 30 ml - #1 在藥店的止血藥市場。IQVIA Pharmatrend PharmaOne - Market 83A 法國藥店中的抗痛風產品 - 2019年10月 - 以價值計算。Comedomed 30 ml - #1 ，在藥店裡，由醫生開出的抗血清市場。IQVIA-Xponent PharmaOne - 在法國，藥店 - 月。2019年11月--以價值計算--市場範圍：抗癌產品（83A類）。3²國際臨床觀察研究，90%的患者在T6個月時沒有暗瘡復發（根據GEA協定中對復發的定義≥3個月時需要引入藥物治療 - 口服或局部），研究由48名試用者每天使用兩次Avène全效淨膚祛瑕精華，持續六個月。436名有輕微到中等程度瑕疵的試用者。臨床比較研究（治療組每天塗抹兩次N=18），對照組（N=18），持續56天。
*已註冊專利
